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突破90nm光刻机,可量产14nm芯片?外媒:中国半导体“大势已定”

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放大字体  缩小字体    发布日期:2023-02-14  来源:ZGJQR |  作者:小球球  浏览次数:742
核心提示:

  在半导体芯片领域里,美国一直拥有着很高的话语权,在我国华为等科技企业被老美卡脖子发展以后,就让我们认识到了发展国产芯片产业链的重要性,所以这几年,我国也一直在用举国之力去打造属于我们自己的国产芯片产业链,为了尽快在芯片领域进行突破,中国半导体各司其职,不少企业都开始在不同的领域进行发力!
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    基本形成2500亿元的集成电路规模     实际上,我国在半导体芯片领域并非是一片空白;国内的华为海思、上海微电子、以及中芯国际等企业都在芯片的研发设计和生产等领域进行了布局,而在上海,我们还打造了“东方芯港”,在这里不仅聚集了大量的半导体芯片企业,而且还拥有着国内最顶级的芯片人才,如今上海已经基本形成了2500亿元的集成电路规模。
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    外媒:中国半导体“大势已定”     作为我国半导体芯片发展的最前沿阵地,上海“东方芯港”也投入了众多的人力物力资源,在经过众多企业的不断努力以后,我们也终于在光刻机、刻蚀机、光刻胶材料等等领域实现了突破;虽然说我们现在还无法与台积电和三星的5nm工艺制程技术相提并论,对此外媒也纷纷表示:中国半导体的发展也早已经“大势已定”!
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    突破90nm光刻机,可量产14nm芯片     如今,上海公布了在集成电路领域取得的一些成果,在90nm光刻机领域已经进行了突破,并能生产14nm芯片;而且在5nm先进的蚀刻机领域也已经有所突破,从目前的发展情况来看,不得不说上海“东方芯港”的发展速度还是比较快的;其中上海微电子已经成功的实现了90nm光刻机的突破,而5nm刻蚀机则由中微公司领头破冰,其生产的5nm蚀刻机甚至已经被台积电所采用;而中芯国际经过这么年时间的发展,其N+1和N+2工艺技术应该也早已经能实现14nm芯片的量产!
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    目前来看,现在中国半导体已经“大势已定”,在这些头部芯片企业的不断努力下,在芯片设计、制造、封装三个环节中,我们已经进行了技术突破,除了光刻机和蚀刻机以外,在芯片设计的EDA软件领域,国内的华大九天也已经宣布可以在28nm提供模拟全流程EDA工具;这也让我们不用担心再被EDA工业软件给卡脖子;而在芯片架构领域,国内的阿里、华为海思都已经成功的打造了开源的开源架构RISC-V,另外,国产龙芯中科也自研了LoongArch指令集架构。
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    随着全球芯片市场出现短缺以后,国产芯片产业链就迎来了大爆发,而我国作为全球第一大的芯片消费市场,每年都要从国外进口超万亿规模的芯片,只要有国内市场加快发展,并努力实现自给自足,那么有这万亿级大市场的支持,我们何愁中国半导体发展不起来呢?不知道对此你是怎么看的呢?
 
 
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