可脉检测(南京)有限公司
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认证信息
品牌:徕卡型号:Leica EM ACE200类型:其他模式:可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式,或者双模式, 可选辉光放电(用于网格表面亲水化)精度达:0.1nm溅射电流:0-150mA可调 Leica EM ACE200徕卡低真空镀膜仪-全新一代喷金仪/喷碳仪/蒸镀仪: Leica EM ACE200徕卡低真空镀膜仪,适用于常规SEM和TEM分析。是全新一代ACE系列产品之一,是徕卡科学家合作研发的结晶,它涵盖了样品制备过程中所需的从常温镀膜到冷冻断裂/冷冻镀膜的所有镀膜需求。使用它能体验到全新镀膜设备的先进技术,简约,简便,快速,可靠地实现样品表面镀膜,使样品在EM中获得十分理想的图像。 Leica EM ACE200徕卡低真空镀膜仪-关键特征体现优势: 全自动化可获得重复性完美镀膜
这款低真空镀膜仪,可选择离子溅射镀金属膜、碳丝蒸发镀碳膜功能,或者同时具备这两种功能。充分满足日常SEM需求,还能用于X-射线能谱及波谱分析及TEM铜网镀碳膜。电脑程序控制,一键操作,全自动完成抽真空、镀膜、放气等全过程。触摸屏控制,简单方便,快速可靠。
电脑程序控制,触屏参数设置,镀膜进程全自动化运行
配置石英片膜厚监控,确保制备出可重复性镀膜
溅射和碳丝蒸发镀膜功能多样
可配置成溅射镀膜仪或碳丝蒸发镀膜仪,也可根据需要装配可调换镀膜源,实现两种镀膜方式
还可选配石英片膜厚监控,用于制备可重复性镀膜;行星旋转样品台,用于对裂纹型样品喷镀均匀镀膜;辉光放电,用于使TEM网格亲水化
更多细节带来舒适工作体验
高品质台式镀膜仪设计小巧紧凑,占地小,节省实验室空间
仪器的门、卷帘、内部屏蔽、光源、载物台等部件均可拆卸,非常容易清洗
直观的触摸屏一键式操作使仪器使用操作非常简便
Leica EM ACE200徕卡低真空镀膜仪技术参数 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式,或者双模式,
可选辉光放电(用于网格表面亲水化)专利设计脉冲式碳丝蒸发方式,可精确控制碳膜厚度 可选石英膜厚检测器,精确控制镀膜厚度,精度达0.1nm 全自动程序控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等过程 触摸屏控制,简单方便 真空度≤7x10-3mbar 溅射电流:0-150mA可调 方形样品仓专利设计,样品仓尺寸:140mm(宽)x145mm(深)x150mm(高) 工作距离调节范围:30-100mm