瑞泽半自动氩气净化器光谱仪配套设备

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品牌：瑞泽型号：RZ-YA-4c类型：氩气净化机加工定制：是材质：不锈钢用途：提高气体纯度设计温度：380-420℃设计压力：0.2-0.8MPa适用介质：氩气电机功率：1.6KW外形尺寸：550*600*1200mm重量：120kg纯度：99.9999%重量：120kgarea class="lazyLoad">

CZA系列型光谱分析用氩气净化机氩气净化器氩气净化装置现货销售

净化原理

该净化机利用催化剂促使氩气中的微量氧气与碳反应生成二氧化碳，从而除去氩气中的杂质氧气，再利用分子筛吸附脱除氩气中的H2O、CO2等杂质，再利用合金吸附剂吸附脱除氩气中剩余的的N2等惰性杂质，即可得到高纯氩气。

氩气净化机的技术参数

 对原料氩气要求

一般瓶装纯氩，液氩、控制较好的管道氩气。

杂质要求： O2≤1000PPm, H2O≤1000PPm。

 输出纯气

纯度：99.9999%

杂质含量：

O2≤0.1PPm，

H2O≤1PPm(即露点≤－76℃)，

N2≤0.5PPm

CO+CO2≤0.1PPm，

S、P的氧化物≤0.1PPm。

尘埃粒子数（≥0.3μm）3-5个／升。

工作压力：0.4-0.8MPa。

 处理气量：4NM3/h。

设备尺寸：600mm×700mm×1600mm

设备重量：150kg

设备特点

1)  催化剂活性高，净化后的气体纯度高。

2)  双式结构，一组工作另一组再生备用，故能长期连续供气。

3)  采用本机纯气吹扫的再生流程，再生不用氢，故不需专用机房，安全性好。

4)  CZA-4C对再生具有自动功能，操作比老产品更简单，并且不易出错，性能也更稳定可靠。

5)  CZA-4C克服了老产品偶尔会产生“假断偶保护”使再生不能进行的缺点。

6)  系统采用零泄露的波纹管阀门，设备的可靠性更高。

7)  采用分级净化的原理，预先除去氩气中的活性杂质，如O2、H2O、CO2等，再深度净化，大大延长了设备的使用寿命。

8)  增加了除氮功能，氩气的纯度更高。

CZA-4C型氩气净化机可与美国热电，德国斯派克、OBFL、布鲁克；瑞士ARL，牛津光谱、日本岛津，北京纳克，英国阿朗，北京瑞利等多家光谱仪公司生产的直读光谱仪、荧光光谱仪、辉光光谱仪配套使用，以增强分析数据的可靠性和稳定性，同时可以较大的节省购买高纯氩气的成本。该型机器尤其适用于与带氮通道的直读光谱仪配套使用，同时该净化机也可用作高纯材料（如单晶硅、多晶硅、高纯金属）生产的保护气氛。

售后服务

为了解除用户选用我公司产品的后顾之忧，我们一贯奉行如下的满意服务标准。

1.如果产品本身存在任何质量问题，我公司负责包修，包换，包退；2.如果产品在运输途中损坏，我公司负责包修，包换，包退；

3.在保修期内的使用损坏，我公司负责包修，包换，包退；

4.产品的免费保修期为一年；

5.我公司提供终身有偿维修服务，只收取相关维修材料费用及差旅费用。

高纯氩气纯化设备

1. 概述

   氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气体，为了提高硅晶体的质量，如何选用较高纯度的氩气，是制作硅晶体的一个议题。通过对本装置的使用，氩气的纯度其中氧含量小于1ppm时，水分也小于1ppm时，制作出的单晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm，这样就提高了单晶的使用寿命并能达到要求，赢得客户的满意和市场的需求。

   由于一般液氩汽化后未经过纯化处理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有时气体供应商提供的氩气超过了此范围，使用氩气的客户不知道其质量，所以往往给生产产品质量造成影响。有了氩气纯化装置后不论氩原料气的质量如何，只要经过纯化装置的处理后，进入拉晶炉的氩气，纯度始终是恒定的。

   一般氧含量小于0.5ppm，水分小于1ppm，这样稳定的氩气对生产晶体的质量是有保证的。

2. 关于氩气纯化的方法

   第一种

   直接脱氧法。就是使用活性金属与氩气中的氧气进行反应，消化掉氩气中的氧气，从而达到脱氧的目的，经过分子筛吸收掉氩气中的水份，使氩气的含水量小于1ppm。

       

   第二种

       是采用吸气剂。在一定温度下，吸气剂可吸收氮、氢、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷等气体经吸收处理后，氩气的纯度可达到6个九，这种保护气体更适用于制作高纯度的半导体的单晶硅。

   利用吸气剂纯化后氩气的纯度：

                              O2≤0.2ppm

                              H2≤0.5ppm

                              N2≤1ppm

                              CO+CO2≤0.5ppm

                              CH4≤0.5ppm

                              水份≤1ppm

   第一种方法设备投资小，设备中脱氧剂的使用寿命一般大于四年。

   第二种方法设备纯化纯度高但投资相对较大，吸气剂使用寿命为两年。

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：本公司也可根据客户要求，直接做高压的，这样就可省掉使用模压机增压工序。

     还可根据客户要求，配备分析仪在线时时检测设备中气体纯度。

1. 氩气用途

       高纯氩气用于焊接、不锈钢制造、冶炼，还用于半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气。

   主要用途：欢迎新老用户选择我公司产品：氩气净化机，氩气净化器，高纯氩气净化，高纯氩气净化设备，高纯氩气纯化设备，高纯氩气纯化装置，YAC系列氩气净化设备，全自动氩气纯化设备，大型氩气净化设备，硅材料行业用氩气净化设备，硅材料用除氧、除水氩气纯化装置,气站专用氩气净化设备，气站专用氩气纯化器，气站用高纯氩设备,单晶硅行业用氩气除氧、干燥设备，多晶硅行业用氩气除氧、干燥设备,高纯氩气提纯设备，氩气提纯机,高纯氩气过滤器。

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