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江苏厂家生产 PVD镀膜靶材 磁控溅射镀膜颗粒 稀贵金属锇靶材Os
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  • 发布时间:2019-01-25 23:03

产地:江苏 苏州市 | 归属行业:喷涂溅射材料

有效期至:长期有效

联系人: 陈生

手机:13776271737

联系地址:江苏苏州苏州市东昌园36-1号

商铺网址: http://aetoes.okhy.cn/

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品牌/厂家:Aetoes牌号:Aetoes-Os001材质类型:金属靶材材料名称:贵金属锇靶材规格:颗粒,线,丝,片形状:颗粒,线,丝,片用途:磁控溅射镀膜制备工艺:熔炼成份:99.95%材质:稀贵金属使用用途:薄膜材料镀膜,磁控溅射,蒸发镀膜常见尺寸:直径57*0.1mm 直径50.8*1mm 直径50.8*2mm 直径50.8*3mm 直径50.8*4mm产地:上海、北京、广东、苏州、国外进口材质纯度:99.95%详细说明

高纯贵金属磁控溅射镀膜锇靶材Osmium (Os)锇PVD镀膜材料 

 

产品名称:

 锇靶,锇粒,锇粉,锇丝

牌号规格:

Os 1

用途 :

主要用于电阻、继电器、火花塞电极、电触头、热电偶及印刷电路等

 

 

 

 







 

 

产 品 详 情

贵金属锇及其合金在石油化学工业上主要作催化剂。

在电子电器工业上,作电阻、继电器、火花塞电极、电触头、热电偶及印刷电路等。

在玻璃工业上,金属锇不会使熔化的玻璃污染,可作为制造光学玻璃时的容器内衬。

锇铱合金可以作钟表和仪器中的轴承,制造笔尖和唱针。

传统上,锇用来制作钢笔尖,现在应用于生产磁控溅射镀膜靶材。

 

锇溅射靶材Osmium (Os)

形状

圆形、方形

尺寸

Φ50~100mm

厚度

3~15mm

纯度

≥3N5

注:其它尺寸可根据客户要求制作。具体尺寸请联系销售。

高纯铂|钯|银蒸发镀膜颗粒材料应用于芯片行业蒸发键合材料

 

产 品 详 情

产品名称:

铂、钯、银蒸发材料

牌号规格:

按照用户要求定制,执行Q/GYB55-2010标准

用途备注:

由于高稳定性,优良的物理化学性能、电学性能、磁学性能等,通过蒸发、溅射工艺,广泛用于电子工业,信息技术,汽车工业等领域作功能性薄膜、保护性涂层和装饰性涂层等。

 

化学成分:

金 属

牌 号

主 要 成 分 %

杂 质 含 量  % , 不 大 于

Au

Pt

Pd

Ag

Au

Fe

Pb

Sb

Bi

总 量

Pt1

≥99.99

0.008

0.002

0.01

Pd1

≥99.99

0.008

0.002

0.01

Ag1

≥99.99

0.003

0.002

0.002

0.002

0.01

注:经供需双方协商,可供其它成分的产品。

 

外形尺寸:

合金牌号

形状

规格

允许偏差

Pt1、Pd1、Ag1

线材

直径0.25~3.0

±0.05

片材

厚度0.2~0.5

±0.05

规则颗粒

¢2×5、¢3×4、¢3×6、≠2×10×10等

——

注:经供需双方协商,可供其它规格和允许偏差的产品。





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