苏州厂家艾拓斯直销磁控溅射镀膜 高纯贵金属铂金靶材(Pt)Targets

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品牌/厂家：Aetoes牌号：Aetoes-Pt材质类型：金属靶材材料名称：铂金规格：直径57*0.1形状：圆片方形颗粒管子用途：磁控溅射镀膜蒸发制备工艺：熔炼成份：99.99%材质：贵金属铂金 白金使用用途：薄膜材料镀膜，磁控溅射，蒸发镀膜常见尺寸：直径57*0.1mm 直径50.8*1mm 直径50.8*2mm 直径50.8*3mm 直径50.8*4mm产地：上海、苏州、广东、国外进口材质纯度：99.99%详细说明

高纯贵金属铂(Pt)溅射镀膜靶材及铂合金管坩锅蒸发镀膜颗粒

贵金属靶产品总述：

随着靶材在磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等产业的发展，我们加大在稀贵金属靶材研发和制备方面的投入力度，通过原料控制、真空感应熔炼、挤压、轧制、真空热压烧结、热等静压、放电等离子体烧结等不同工艺, 并采用严格的质量控制过程，我们能够制备多种靶材并能一直保持着批量供货。

稀贵重金属名称：铂靶、钯靶、银靶、铱靶、铑靶

牌号规格：Pt1、Pd1、Ag1、Ir1、Rh1

用途：主要用于磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等领域。

产 品 详 情:  该材料主要用于仪器、仪表导电环及其他用途，如电容式变送器输油管等。

产品名称：高纯铂Platinum (Pt)溅射靶材及铂合金管材铂坩埚

牌号规格：Pt1、Pt2、PtRh10

用途备注：还应用于仪器、仪表导电环及其他用途，如电容式变送器输油管等

铂金溅射靶材 (Platinum-Pt)，铂坩埚器皿，白金靶材

规格尺寸：

注：具体尺寸请联系销售。

供应高纯贵金属黄金及金基合金溅射靶材Glod(Au)Targets科研及工业必备材料

产 品 详 情

高纯贵金属金及合金是制造半导体芯片的关键基础材料。使用金靶材将金膜沉积在半导体芯片表面，形成欧姆接触膜、电极和连线膜，可形成多种金属化膜系统。该金属氧化膜系统可大量应用于制造发光二极管（LED），   

军用和民用微波通信器件，航天、航空等重要领域用半导体化合物以及芯片太阳能电池等领域。

化学成分